哪些因素影響了等離子體清洗機(jī)的清洗效果
時(shí)間:2021-07-03 14:41
據(jù)昭沅小編的了解，影響等離子體清洗機(jī)處理效果的主要有：
一是電極
電極的設(shè)計(jì)對(duì)等離子體洗效果有顯著影響，主要包括電極的材料、布局和尺寸。
對(duì)于內(nèi)電極等離子體清洗機(jī)，由于電極暴露在等離子體中，一些材料的電極會(huì)被一些等離子體腐蝕或?yàn)R射，造成不必要的污染，導(dǎo)致電極尺寸的變化，從而影響等離子體清洗的速度和均勻性。
較小的電極間距可以將等離子體限制在狹小的區(qū)域，從而獲得更高密度的等離子體，實(shí)現(xiàn)更快的清洗。隨著間距的增加，清洗速度逐漸下降，但均勻性逐漸增加。
電極的大小通常決定了等離子系統(tǒng)的整體容量。在電極平行分布的等離子體清洗機(jī)中，電極通常用作托盤(pán)，較大的電極可以一次清洗更多的部件，提高設(shè)備的運(yùn)行效率。
二是工作壓力
工作壓力是等離子體清洗機(jī)的重要參數(shù)之一。壓力的增加意味著等離子體密度的增加和粒子平均能量的降低。
以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體密度的增加可以顯著提高等離子體系的清洗速度，而以物理轟擊為主的等離子體清洗系統(tǒng)效果不明顯。
此外，壓力的變化可能會(huì)導(dǎo)致等離子體清洗反應(yīng)機(jī)制的變化。例如，硅片腐蝕過(guò)程中使用的CF4/O2等離子體在壓力較低時(shí)起主導(dǎo)作用，而隨著壓力的增加，化學(xué)腐蝕不斷加強(qiáng)，逐漸占主導(dǎo)地位。
3.電源功率和頻率
電源的功率對(duì)等離子體的參數(shù)有影響，如電極的溫度、等離子體產(chǎn)生的自偏壓和清洗效率。
隨著輸出功率的增加，等離子清洗速度逐漸加強(qiáng)，并逐漸穩(wěn)定在峰值，而自偏壓力隨著輸出功率的增加而增加。由于功率范圍基本恒定，頻率是影響等離子體自偏壓的關(guān)鍵參數(shù)，隨著頻率的增加，自偏壓力逐漸下降。
此外，隨著頻率的增加，等離子體中電子的密度會(huì)逐漸增加，粒子的平均能量會(huì)逐漸下降。
四是工作氣體
工藝氣體的選擇是等離子體清洗機(jī)設(shè)計(jì)的關(guān)鍵步驟。雖然大多數(shù)氣體或氣體混合物可以去除污染物，但清洗速度可以相差數(shù)倍甚至數(shù)十倍。例如，在氧氣(O2)中加入不同比例的氟化硫(SF6)作為工藝氣體清洗有機(jī)玻璃，可以大大提高清洗速度。
